ASML, 차세대 반도체 장비 개발 착수...2035년 이후 5나노 단일노출 기술 목표

반도체 장비 제조업체 ASML홀딩(NASDAQ:ASML)이 차세대 반도체 산업을 위한 첨단 리소그래피 장비 개발에 나섰다.

니케이아시아는 목요일 ASML의 요스 벤스콥 부사장의 말을 인용해 네덜란드 기반의 ASML과 독점 광학 파트너인 칼 자이스가 단일 노출로 5나노미터 수준의 회로를 프린트할 수 있는 장비 설계를 연구하고 있다고 보도했다.

이들은 이 기술이 2035년 이후 업계의 수요를 충족시킬 것으로 기대하고 있다.

네덜란드 거대기업 ASML의 주가는 최근 12개월 동안 27% 이상 급락하며 큰 어려움을 겪고 있다. 이는 지정학적 긴장 고조와 글로벌 기술 섹터에 영향을 미치는 광범위한 거시경제적 불확실성이 주된 원인이다.

ASML은 1년 만에 시가총액이 1,300억 달러 이상 감소했다. 이는 주로 미국의 압력으로 네덜란드 정부가 중국에 대한 수출을 제한한 것과 관련이 있다. 미국은 중국의 첨단 반도체 기술 접근을 제한하려 하고 있다. 여기에 여러 국가로부터의 수입품에 대한 미국의 관세 정책을 둘러싼 광범위한 불확실성도 투자자들의 우려를 가중시켰다.

이에 따라 여러 월가 기관들은 제한적인 무역 환경에서 ASML의 당장의 성장 전망에 대한 우려를 반영해 등급을 하향 조정하고 목표가를 수정했다.

한편 대만반도체(TSMC)(NYSE:TSM)를 비롯한 여러 칩메이커들은 가장 첨단 공정에 사용될 ASML의 고개구수(NA) 장비 도입을 여전히 검토 중이다.

이 장비들은 약 4억 달러에 달하는 가격이 다른 장비의 두 배에 이르지만, 아직 기존 반도체 제조 장비보다 더 빠르거나 유익하다는 것이 입증되지 않았다.

주목할 만한 점은 대만반도체의 케빈 장이 비용 문제를 들어 A16 노드에 ASML의 고NA 장비 사용을 거부하고, 대신 저NA EUV 장비를 사용해 스케일링 이점을 얻는 방안을 검토했다는 것이다.

반면 인텔(NASDAQ:INTC)은 위탁 반도체 사업을 강화하고 대만반도체와의 경쟁력을 높이기 위해 14A 공정에 고NA EUV 장비를 도입할 계획이다. 다만 회사는 고객들이 여전히 기존의 검증된 기술을 선택할 수 있다고 언급했다.

주가 동향: ASML 주식은 수요일 거래에서 0.23% 상승한 815.24달러로 마감했다.