中 SMIC, ASML 없이 5나노 칩 제조 성공...팔리하피티야 "美, 기술 우위 지켜야"

중국이 극자외선(EUV) 리소그래피 장비 없이 5나노미터 칩 생산에 성공했다는 소식이 기술업계에 경종을 울리고 있다.
주요 내용
인텔의 첫 베이징 대표였던 윌리엄 후오는 24일 X(구 트위터)를 통해 중국 반도체 제조업체 SMIC가 EUV 장비 없이 5나노급 칩을 제조했다고 전했다.
후오는 "ASML도, 니콘도 없이 DUV 기술력과 혁신적인 엔지니어링, 산업적 의지만으로 이뤄낸 성과"라고 강조했다. 그는 이번 성과가 자체 개발한 심자외선(DUV) 기술과 자체정렬 4중 패터닝(SAQP) 같은 혁신에 기인한다고 설명했다.
벤처 캐피털리스트 채머스 팔리하피티야는 이에 대해 "기술적 우위야말로 유일하게 승리해야 할 전장"이라며 "기술적 우위를 확보한 국가가 군사적, 경제적 우위도 차지하게 될 것"이라고 경고했다.
그는 "중국이 미국과 대등한 수준에 이르렀지만, 미국이 집중하고 우선순위를 정한다면 승리할 수 있다"고 덧붙였다.
시장 영향
업계 관계자들에 따르면 SMIC는 2025년까지 5나노 칩 개발을 ................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................