ASML, 차세대 반도체 장비 개발 착수...2035년 이후 5나노 단일노출 기술 목표

반도체 장비 제조업체 ASML홀딩(NASDAQ:ASML)이 차세대 반도체 산업을 위한 첨단 리소그래피 장비 개발에 나섰다.
니케이아시아는 목요일 ASML의 요스 벤스콥 부사장의 말을 인용해 네덜란드 기반의 ASML과 독점 광학 파트너인 칼 자이스가 단일 노출로 5나노미터 수준의 회로를 프린트할 수 있는 장비 설계를 연구하고 있다고 보도했다.
이들은 이 기술이 2035년 이후 업계의 수요를 충족시킬 것으로 기대하고 있다.
네덜란드 거대기업 ASML의 주가는 최근 12개월 동안 27% 이상 급락하며 큰 어려움을 겪고 있다. 이는 지정학적 긴장 고조와 글로벌 기술 섹터에 영향을 미치는 광범위한 거시경제적 불확실성이 주된 원인이다.
ASML은 1년 만에 시가총액이 1,300억 달러 이상 감소했다. 이는 주로 미국의 압력으로 네덜란드 정부가 중국에 대한 수출을 제한한 것과 관련이 있다. 미국은 중국의 첨단 반도체 기술 접근을 제한하려 하고 있다. 여기에 여러 국가로부터의 수입품에 대한 미국의 관세 .................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................